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超捷获台积电授权90纳米嵌入式闪存技术

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       超捷半导体公司(SST)和台湾积体电路制造股份有限公司(TSMC公司)日前签订了一份技术开发和授权合同,将提供世上首个可授权90纳米嵌入式闪存技术。

      根据合同,台积电将授权超捷下一代90纳米SuperFlash技术,作为台积电嵌入式闪存组合的一部分。

      超捷先进的90纳米SuperFlash技术满足了各种应用的需要,如64位MCU内核,高速ASIC和多媒体IC等。该技术采用了分割门、SSI擦写和poly-erase内存电池,可进行真正的逻辑VDD读写操作,从而满足了低功率和高密度应用的要求。

      采用该90纳米嵌入式闪存技术的样品将在2007年问世。

来源:半导体国际   作者:  2006/8/23 0:00:00
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