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Applied MicroStructures

发布时间:2006年9月1日 点击次数:233
来源:半导体国际   作者:
 
分子气相淀积系统MVD100能够加速研发适用于纳米尺寸器件的下一代薄膜涂层。依靠改善传统化学废弃物的排放技术,设备克服了湿法浸没工艺的局限和不足,提高了整体的表现。器件置于设备的真空环境中进行气相淀积,剩余污染物随后被移除,其表面允许清洗。MVD100优化了设计,能够在保持薄膜物理、化学性能的前提下,进一步减少颗粒污染和降低表面粗糙度。
 www.appliedmst.com


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