位于英国剑桥的Vistec Lithography Ltd.公司（Leica Microsystems Lithography）日前宣布了他们已经收到新VB300电子束光刻工具的定单,这是他们成功的超高分辨率电子束系列的进一步发展。

      VB300系统定位于纳米光刻电子束直接写入技术和下一代的掩模板应用,可装载小到5mm多片晶片大到300mm的整个晶圆,以及相应尺寸的掩模板基板。

      该系统集合了很多在它上代系统VB6-UHR EWF上已被验证了的特性,包括一个100KV的高亮电子枪、50MHz/20位智能模式生成器、50KV和100KV操作时1.2mm大的尺寸区域,以及10nm以下光刻能力。

      VB300的增强功能集中在合成的方形底座上,它有较低的重心、坚固的平台和高衰减能力的结构,可以支撑新的320mm的工作台,并明显提高了对噪音干扰的预算。基板的装载可以通过以下来实现：带10个夹具的气锁夹持各种类型基板、FOUP晶圆盒或带有符合工业标准适用大到300mm晶圆的接口的前置盒。

      VB300的独特的特征是他的垂直的Z轴控制,当光刻从非标厚度的基板应用进入整个新的MEMS应用范围时,具有相当的灵活性。

      VB300系统以VB6系统的弹性和执行能力为基础,加入了更多的柔性用户界面和许多新的工艺准备、回放、诊断工具。其增强的灵活性和适用性使之很好的迎合了工厂和纳米级光刻技术研发需求。