全球半导体设备生产和技术领先企业诺发系统有限公司（Novellus Systems,Inc.）在2006 SEMICON展览开展第一天向外界正式宣布已经向中国北京清华大学捐赠了一套200毫米的化学机械抛光（CMP）设备。在2003年,该公司曾向复旦大学捐赠了一套铜半导体生产设备。

诺发公司向清华大学捐赠的这套设备以氧化平坦化工艺处理为主,可用于多种材料的抛光,包括在集成电路制造中使用的钨、铜以及浅沟道隔离(STI)薄膜等。此套轨道式CMP系统可以将多层金属化集成到清华大学的半导体生产流程中,它还将有助于清华大学提高在微纳电子集成电路的工艺处理及设计方面的研究和教学水平。除此之外,诺发还宣布将向清华大学提供为期三年的教授基金。

随着中国半导体行业的迅猛发展,人才的欠缺已经越来越显现出来,特别是中国自己培养的半导体技术和管理人才。诺发公司此举是支持中国培养自己的半导体专业人才所迈出的务实的一步。