东京应化工业株式会社在2006 SEMICON China展会期间宣布其投资90亿日元兴建的日本相模事业所新研发大楼将于今年夏天投入使用。新研发大楼建筑面积1600平方米，使用面积达到5900平方米，新研发大楼的兴建是为了开发应用于45nm制程技术的半导体材料。

“东京应化兴建相模事业所新研发大楼，用于开发应用于45nm制程技术的半导体材料，在同行业中是第一家，我们比竞争对手先行了一步。”东京应化工业株式会社上海代表处所长鸣海裕介先生对此充满信心。

东京应化今年在中国的策略重点将会放在与长春石油化学股份有限公司合资的长春应化(常熟)有限公司。长春应化主要生产半导体及液晶显示器制造用稀释剂、光阻显影剂，今年2月份公司对外宣布将扩大生产品种，计划从2006年6月起批量生产液晶显示器制造用剥离剂。预计产能将达到每月400吨，目前华东两家知名的液晶板生产厂商已向长春应化确定订货。