台积电近日表示,公司率先推出的“芯片可制造性设计（Design for Manufacturing;DFM）”服务内容,芯片设计人员可藉由通过台积电验证过的设计工具,直接取得这些资料,进一步提升分析效率。

　　台积电指出,上述DFM资料统一格式系由台积电开发,期望芯片设计人员自不同公司DFM工具取得的资料格式,尝试与台积电工艺的资料格式相符;这些DFM工具包括微影工艺检查（Lithography Process Check）、化学机械研磨分析（Chemical Mechanical Polishing Analysis）,以及关键区域分析（Critical Area Analysis）。

　　通过产业生态环境的规格整合及同步化,台积电所推出的DFM服务内容,将更可增加芯片设计人员使用DFM工具的便利性,也进一步提高进行DFM分析的作业及管理效率,这对客户在设计65纳米产品的时效性,将明显发挥经济效益。