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Herdelberg出售一套直写式光刻设备 |
| 发布时间:2006年8月9日 点击次数:356 |
| 来源:SEMI 作者: |
据EE Times网站报道,Heidelberg设备公司声称已向Erlangen-Nuremberg大学的光学、信息与光子研究所出售了一台DWL400无掩模光刻系统。 该公司并未透露这台设备的售价。据称这台设备可以直接写入0.6微米的线条,其工作面积达400毫米×400毫米。 “在很多研究项目中,设备的性能与灵活性是科研成功的关键,”Heidelberg市场与销售副总裁Alexander Forozan说。“这一点已经在Erlangen-Nuremberg的光学研究所内得到了验证。DWL400系统具有128阶灰阶曝光功能,厚胶光刻功能,以及层与层之间对准功能。” 相关链接(英文): |
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