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Aviza发货新一代ALD设备至中芯国际 |
| 发布时间:2006年9月7日 点击次数:302 |
| 来源:SEMI 作者: |
据REED网站报道,全球半导体、复合半导体、纳米技术及其它相关市场提供先进半导体设备和工艺技术的供应商Aviza Technology日前宣布将其新一代单晶硅原子层沉积系统(Atomic Layer Deposition,ALD)Celsior(TM)发货至中国IC工厂中芯国际(SMIC)。这套Celsior系统将用于生产90-nm DRAM芯片。 Celsior开发在产品查验平台基础上,此项技术是Aviza公司与合并前的Trikon公司共同开发出的。这种平台软件已经应用在世界各Fab厂的化学气相沉积(CVD),物理气相沉积(PVD)及外延系统中。 Celsior另一个特征是具备新的制程腔,具有高生产量,低化学消耗以及扩展的工艺窗口,因此降低了生产成本。Celsior 符合ALD严密的工艺制程过程,能够满足300mm晶圆低于1%厚度均一性的要求。 ALD是半导体工业中增长飞快地设备系统。另据分析,ALD设备将逐渐替换化学气相淀积(CVD)淀积技术,成为业界主流 |
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