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Rudolph推出新型透明薄膜测量系统 |
| 发布时间:2006年9月6日 点击次数:328 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Semiconductor Reporter网站报道,Rudolph技术公司日前推出其S3000（300毫米）及S2000（200毫米）透明薄膜检测系统。该系统基于椭偏光检测原理,适用于大部分透明薄膜检测。 据该公司表示,该系统将为薄膜工艺、CMP工艺以及光刻工艺提供高产出、低成本的薄膜测量。 该系统集成了Rudolph公司第五代椭偏光检测系统,以及长期稳定的激光光源。该系统提供可选的深紫外光和可见光两种方案。所有这些组件集成在Rudolph的Vanguard平台上。 相关链接（英文）： |
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