|
|
| | -文章搜索 - 最新文章 - | |
Hoya公司选择应用材料TetraII设备用于65nm光刻生产 |
| 发布时间:2006年9月6日 点击次数:293 |
| 来源:SEMI 作者: |
据应用材料网站报道,应用材料gon公司6月5日宣称,其Applied Tetra(TM)II掩膜刻蚀系统已被世界最大的光刻掩膜版及LCD产品供应商Hoya公司选中作为65nm工艺掩膜版的制造设备。 Tetra II掩膜刻蚀系统拥有先进的制造性能,包括先进的二元膜版及周相移动的膜版工艺,此套设备是基于全球65nm工艺对光刻产品的需求而开发研制的。Hoya公司将会计划在06年中期安装Applied Tetra(TM)II设备。 Hoya公司光刻分部总经理Asao Shikata表示,Applied Tetra II系统对于65nm工艺有着良好的生产性能,尤其是对于铬合金及石英的刻蚀性能方面更加出众。这套系统将会帮助Hoya公司为业界提供优异的光刻产品。 应用材料副总裁Tom St. Dennis表示,我们非常高兴Hoya公司选择应用材料的先进的技术设备来用于65nm光刻产品的制造。Tetra II设备拥有非常顶尖的技术水平,会给客户带来高精度的工艺产品。 相关链接(英文):www.appliedmaterials.com |
|
|
|
|
[新闻热点] 相关文章: 内存封测下半年成长20%简介:
内存下半年产能持续扩充,后段封测厂同时受惠,在出货快速增加,以及价格持稳下,包括力成(6239)、泰林(5466)、南茂、华东(8110)、典范(3372)都是受益者,预期下半年营收平均成长幅度有20%,平均每季10%。 包括尔必达(Elpida)、东芝(Toshiba)、海力士(Hynix)、力晶(5346)、茂德(5387)、华邦(2344)等下半年都有大量产能开出,对后段厂的下单持续增加。另外,在SanDisk(新帝)、飞索(Spansion)也加速台湾的释单,因此未来内存的定单持续大幅度成长。 ...... 力晶茂德8月营收新高
旺宏锐减Nor Flash产能 冠捷将受益
飞索代工台积65奈米以下制程
IC设计Vista概念当红
富士康上半年净利润飙升至3亿美元
Linear启用全新中文名“凌力尔特”继续发力模拟芯片
全球芯片厂4-6月利用率升至91.2%
FormFactor推出新型探卡 将大幅提高300毫米闪存测试产出
韩国Dongbu完成新型130nm CMOS图像传感器研发 |
|
|
|