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Hoya公司选择应用材料TetraII设备用于65nm光刻生产 |
| 发布时间:2006年9月6日 点击次数:293 |
| 来源:SEMI 作者: |
据应用材料网站报道,应用材料gon公司6月5日宣称,其Applied Tetra(TM)II掩膜刻蚀系统已被世界最大的光刻掩膜版及LCD产品供应商Hoya公司选中作为65nm工艺掩膜版的制造设备。 Tetra II掩膜刻蚀系统拥有先进的制造性能,包括先进的二元膜版及周相移动的膜版工艺,此套设备是基于全球65nm工艺对光刻产品的需求而开发研制的。Hoya公司将会计划在06年中期安装Applied Tetra(TM)II设备。 Hoya公司光刻分部总经理Asao Shikata表示,Applied Tetra II系统对于65nm工艺有着良好的生产性能,尤其是对于铬合金及石英的刻蚀性能方面更加出众。这套系统将会帮助Hoya公司为业界提供优异的光刻产品。 应用材料副总裁Tom St. Dennis表示,我们非常高兴Hoya公司选择应用材料的先进的技术设备来用于65nm光刻产品的制造。Tetra II设备拥有非常顶尖的技术水平,会给客户带来高精度的工艺产品。 相关链接（英文）：www.appliedmaterials.com |
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