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Brion光学修正工具导入65纳米量产

发布时间:2006年9月5日 点击次数:274
来源:SEMI   作者:
 

据Semiconductor Reporter网站报道,Brion公司日前宣布其Tachyon LMC光学修正(optical proximity correction,OPC)工具被Crolles2联盟采用,将用于量产65纳米工艺。

同时Brion还与Crolles2签下协议,开发用于45纳米器件的OPC工具。

Crolles2成员包括意法半导体,飞利浦半导体,以及飞思卡尔半导体等。这些公司已将Brion公司工具用于自动化65纳米工艺量产。

Brion与Crolles2的合作始于2005年4月,后者已从前者订购了Tachyon LMC和Tachyon RDI两种工具。

相关链接(英文):
httpwww.semireporter.compublic13378.cfm


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