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Brion光学修正工具导入65纳米量产 |
| 发布时间:2006年9月5日 点击次数:274 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Semiconductor Reporter网站报道,Brion公司日前宣布其Tachyon LMC光学修正（optical proximity correction,OPC）工具被Crolles2联盟采用,将用于量产65纳米工艺。 同时Brion还与Crolles2签下协议,开发用于45纳米器件的OPC工具。 Crolles2成员包括意法半导体,飞利浦半导体,以及飞思卡尔半导体等。这些公司已将Brion公司工具用于自动化65纳米工艺量产。 Brion与Crolles2的合作始于2005年4月,后者已从前者订购了Tachyon LMC和Tachyon RDI两种工具。 相关链接（英文）： |
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