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Toppan Photomasks扩大上海工厂产能 |
| 发布时间:2006年9月5日 点击次数:326 |
| 来源:SEMI 作者: |
据EE Times网站报道,Toppan Photomasks Inc.近期表示,公司计划增加其上海工厂生产能力,增加的产能将用于生产180nm IC光掩膜板,并增加其250nm及其以上光刻和检测能力。 Toppan Photomasks表示,本次扩大产能将增加净化室面积,增强制程、检测和修复能力,以适应中国电子市场的高速发展。净化室面积扩大将于2006年第三季度完成,第四季度实现产能增加。 Toppan Photomasks是日本Toppan Printing Co. Ltd.的子公司,本次扩能是自1996年成立以来的第四次产能扩大。 相关链接（英文）： |
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