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检测系统STARlight-2 |
| 发布时间:2006年4月21日 点击次数:243 |
| 来源:半导体国际 作者: |
KLA-Tencor Corporation www.kla-tencor.com Booth: #3401 |
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新一代的刻蚀系统Tactras在300mm硅片传送中能够延续真空状态。利用有滑行装置的钟摆型运动手臂,在同一个平台上最多可以装配6个工艺腔室,设备有能力满足干法刻蚀后的各项工艺需求。Tactras具有尺寸小,省能源的优点,而且和Telius的产能相近。公司研发的“设备操作支持功能”方便了设备的操作性并提高了产能;新近又推出了“设备停止时的硅片保障功能”。对于刻蚀绝缘材料工艺的腔室,安装是一个接着一个的。 ...... 机载真空干泵
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