上海微高精密机械工程有限公司正承担着国家“十五”重大科技专项“100nmArF准分子激光步进扫描投影光刻机”分系统的研制任务。据悉，目前国产100nm光刻机已进入系统整装阶段，2006年就是中国首台100nm光刻机样机正式亮相之年，上海微高总经理程建瑞表示，这将意味着中国光刻设备技术由“十五”始时落后6代缩小至“十五”末时的3代，到“十一五”结束时，我们的目标是技术上与国际水平相差1代至0.5代。

　　我们把将掩模图形转印到涂有光刻胶的衬底晶片上的设备称为光刻机，半导体制造技术之所以能飞速发展，光刻技术的支撑起到了极为关键的作用，而放眼中国各大生产线上，全是进口光刻机，所以把研制国产光刻机上升到使命层面也不为过。

　　光刻设备的更新换代很快，而其研发周期却很长。因为，光刻机是一个多种复杂技术的集成，而对准和曝光又是光刻工艺中最关键的工序，可在中国着手研制100nm光刻机时，这两项技术指标却是空白。然而，国际上三大知名光刻机制造商——ASML、Nikon、Canon分辨率为100nm的193nm ArF准分子激光分步扫描投影光刻机却早已在市场销售。所以，程建瑞也不否认，国产100nm光刻机的“敲门砖”效应。由此也看出，做国产光刻机，使命感、紧迫感、勇敢，三者一个都不能少。

　　就使命感而言，程建瑞表示，国家“十五”重大科技专项“100nmArF准分子激光步进扫描投影光刻机”，是以高端光刻设备的总体设计技术、集成技术和关键单元技术为主攻目标，是我国微电子产业发展规划的重大战略决策，对于形成光刻设备高端产品技术平台，发展我国自主产权的光刻设备产业具有重要意义。

　　国内技术的空白还在其次，国际市场的技术封锁以及大量不确定因素更是难以掌控。程建瑞表示，100nm所用的关键器件、材料国内根本就没有，只能到国际市场去采购，“比如当初100nm的光刻胶，你出再高的价钱，人家就是不理你。值得庆幸的是，经过多方努力我们国际市场采购渠道都已基本打通了。”

　　国产100nm光刻机目前已申请了40多项专利，计划申请100来项。程建瑞认为，选择100nm切入应该是个正确的技术决策，因为其研制方法不仅对100nm光刻机适用，大部分还可以移植到65nm-45nm-32nm甚至22nm节点技术相关的设备开发、器件设计和工艺研究。而最重要的是，通过对100nm光刻机分系统设计和总体设计集成技术的研发，为国家培养出一大批光刻机技术人才。

　　据程建瑞介绍，100nm光刻机研制项目基础技术人员，由中国电子科技集团45所光刻机业务全部班底加上部分成都光电人员构成，而目前300多人组成的研发队伍完全是公司自我培养成才的。程建瑞说，“国内根本找不到光刻机现成人才，在公司陆续招募来的员工中，只有极少数曾操作过光刻机。”

　　成立于2003年6月的上海微高精密机械有限公司，是由中国电子科技集团45所和上海微电子装备有限公司在上海浦东张江高科技园区成立的合资企业。是目前国内唯一一家提供光刻机和其它晶圆制造前道设备的研制、销售、安装、翻新、备件耗材及技术咨询成套解决方案的公司。

　　上海微高现由45所控股，从1970年开始跟踪、研制光刻机的45所，至今已研制出三代产品。2001年初，45所成功翻新的第一台二手光刻机卖给了北大微电子所。而微高目前经营的二手光刻机翻新业务，就是由45所原班人马构成。据程建瑞介绍，上海微高目前可同时翻新10台光刻机和若干其它黄光区设备、测试设备等，并具备8英寸、0.1μm以上的试验工艺条件。程建瑞表示，上海微高在二手设备市场还会加大开拓力度。“一方面国内市场需求还很大，公司也需要有经营收入。另一方面，经营二手设备业务也是为自主研制的高端光刻机将来实现商业化运作积累经验、培养人才。”

　　也许国产首台100nm光刻机样机很快就会出来，但它毕竟还不是产品。而要达到商用水平的诸多要素——配套加工、可靠的生产工艺、大生产线应用等目前都无从谈起。但若由此推断，国产高端光刻机永无出头之日，恐怕也是有失公允的。据悉，2005年ASML在中国申请了100多项技术专利，而在中国100nm光刻机研制未获实质性进展前，ASML在中国似乎并不在意此项业务的开展。