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Micronict推介激光图形描绘技术

发布时间:2006年10月30日 点击次数:795
来源:   作者:姚钢
 

  随着IC复杂度的提升、工艺技术日益精密,而Mask成本与作业完成时间也随之增加,已经成为IC设计公司一项难以承受的成本开支。由于图形描绘机可以较低的成本支持所有的Mask制程技术,同时比目前采用电子束技术Mask制造的e-beam系统快速、低成本,因此对Fabless公司降低流片成本具有重要价值。

  总部位于瑞典的Micronic公司,是一家专门研发、制造和营销用于光掩膜生产的各种精确度极高的激光图形描绘机,其中的核心技术即为微影技术(microlithography)。作为全球知名的光掩膜图形描绘设备供货商,Micronic目前在亚洲有10个服务点,共有150名专业技术维护人员,销量占公司全球市场80%份额。
Micronic全球副总裁Ulf Sundstrom表示,中国目前仅占公司亚洲市场销售额6%,尽管需求潜力巨大,但公司没有在中国建置类似ATAC的计划。

  2005年,Micronic推出了二款针对亚洲客户的新产品——Sigma7500系统及FPS5100系统。Sigma7500在生产力、弹性及效能的提升,使其应用范围可扩大到包括在90nm、65nm和45nm制程技术的二元光掩膜及相位移光掩膜(PSM)等,目前已建置4套Sigma系统。FPS5100系统则是一款专为先进电子封装、被动矩阵TN/STN LCD和其它大面积应用所设计的全新光掩膜量产工具,拥有12000mm2/分钟产出效率及小至0.4mm的主写入网格(writing grid),为光掩膜制造厂降低成本、缩短工时和更简单的生产规划提供了可能。

  尽管其1995年就与中国市场有了业务往来,不过由于Micronic激光图形描绘机产品在nm级晶圆制造工艺及7代TFT-LCD面板生产线上更具技术优势,而中国目前主流工艺还处于0.25mm ~ 0.18mm及TFT-LCD 5代线水平,因此,Micronic想在中国达到立竿见影之效决非易事。


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