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第25322篇:Varian推出新一代大电流离子注入设备VIISta HCP |
| 发布时间:2006年9月7日 点击次数:273 |
| 来源: 作者: |
据The Semiconductor Reporter网站报道,Varian半导体设备联合公司在Semicon West商推出了满足65nm节点生产需要的大电流离子注入设备VIISta HCP。 VIISta HCPVIISta HCP是Varian公司大电流离子注入设备的第五代产品,同样基于公司专利技术双磁带状光束版图系统开发而成,新设备主要应用与65nm工艺的量产及45nm工艺的开发,可以大大提高产量,降低颗粒污染,具有优越的可靠性并可以降低生产成本。。 Varian在离子注入设备市场中居于全球领先地位,另外公司已有240多套大电流注入设备发货至各地半导体中,公司在此领域的地位也是不容小觑的。 相关链接（英文）：http://www.semireporter.com/public/13757.cfm |
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