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  Archer AIM+是以满足芯片制造商对小于65纳米节点时光刻对准的工艺控制需求而量身打造的。在提高了20%产能的同时设备降低了50%的测量不确定性。设备配备了新型的光学系统因而提高了照明系统的表现,从而使整体测量的不确定性降低到了2.1纳米以内,这已经超过了45纳米技术节点的精度要求。系统采用Windows XP操作界面并加入了多种软件算法。使用Archer AIM+,运送硅片所需时间也缩短20%。
  KLA-Tencor
  www.kla-tencor.com.


来源:半导体国际   作者:  2005/10/10 0:00:00
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