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研磨垫 |
| 发布时间:2005年11月1日 点击次数:295 |
| 来源:半导体国际 作者: |
VisionPad™ VP3100研磨垫,采用独有的聚氨脂配方,它表面比传统硬研磨垫更软,可以减少缺陷,又能具有必要的坚硬度,在对铜阻档层进行化学机械研磨时,实现良好的平坦度。它使用一系列新型化学聚合物,可以把晶圆表面的刮痕、振动的痕迹减少到最少,从而大幅度地提高晶粒的成品率。适合各种研磨台使用,可以减少设备的停机时间与晶圆的损坏,同时提高研磨制程的产量。VisionPad™ VP3100用于65纳米工艺,也可以用于现有的130纳米和90纳米工艺。 Rohm and Haas Electronic Materials,electronicmaterials.rohmhaas.com |
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