不管纳米图形转印技术(NIL)能带来怎样的技术优势，在没有基本设施支撑其发展和大规模生产的情况下，它也是无法存在的。 纳米压印光刻系统制造厂商正在忙于建立并汇总这种支持，半导体产业的很多公司，都被列入了合作伙伴的名单之中。
　　在国际半导体蓝图(ITRS)中，纳米图形转印技术(NIL)是下一代的等比例光刻技术，并有望用于32nm结点 。在最近的商业投标中，EV Group建立了一个全球化的组织，专门致力于使先进纳米压印技术商业化。这个名为NILCom的组织，主要任务是建立一个对相关设备认证和标准化的接口，来建立起一个高量产的纳米压印制造平台，用于纳米电子、数据存储、生命科学和光电子领域。
　　2004年12月召开了国际纳米压印和纳米印刷技术会议(International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies)，业界的很多成员，代表NILCom参加了该会议。

　　“我们已经整合出整个供应链的关键因素”，EVG的首席执行管Peter Podesser在一个发言中说道，“跨越北美，欧洲和亚洲，我们将利用纳米图形转印（NIL）的协力优势，并且对重点应用的各个市场环节给予支持。有了一流的公司和卓越的研究中心，我们将集中于提供总体的高量产的纳米图形转印技术（NIL）解决方案，对化学药品、掩模板厂商和领先的IC制造厂商提供设备和工艺流程。”
　　12月，EV Group在研究中心AMO还做了另一项声明，这项声明涉及与Komag公司的高量产纳米图形转印技术应用的合作项目，其中包括大量数据存储，完全自动化安装，紫外步进重复纳米图形转印(UV-NIL)系统。NIL步进机将在这个季度交给AMO，这种步进机在低压环境下的两次对准，亚50nm精确对准覆盖和分辨率达10nm以下，从1997年以来，AMO就参与了EVG的紫外纳米图形转印技术的合作发展项目。
　　与此同时，纳米图形转印技术竞技场上的另一位领军人物，Molecular Imprints公司，也对自己的对准方法发表了很多的声明。举例来说，Carl Zeiss SMT AG的纳米技术系统部（NTS）开放了一个用户演示实验室，作为对MII步进－闪光纳米图形转印法(S-FIL)的销售支持。NTS已经建立起了必需的基础设施，包括超净车间，图形转印系统，工艺流程和测量设备，并且培养出了一批专家。MII的Imprio 100演示工具已经安装好，然而仍然有很多工作有待关注。
　　MII还公布了一项与麻省工学院唯一的专利使用权转让协定，该协定允许MII在NIL工具中使用该大学的moiré fringe对准技术。MII打算将这一技术作为主要工具来完成选进光刻应用中的高分辨率对准 － 公司的工程师们，已经利用这一技术在MII的工具中展示了7纳米分辨率和3s的对准精度。