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RAVE LLC

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  先进的掩膜版维修系统nm650适用于各种类型的材料,并满足65 nm技术节点的需求。系统降低了光刻掩膜版的生产技术壁垒和弥补由于石英衬底工艺缺陷、不足的Z轴修补控制带来的像位错误、金属镓锈蚀以及在工艺生产中未知污染物沉积等引起的光刻掩膜版制造合格率的损失。系统具有高投资回报率、低循环周期和花费的特点,将给用户带来巨大的利润。
  www.ravellc.com


  
  

来源:半导体国际   作者:  2005/9/15 0:00:00
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