LMS IPRO3是一种掩模度量设备，设计用于65nm及以下掩模的度量。它具有>1.5 nm短程重复性、最短编程设计时间和操作者可干涉的特点。该设备还具有数据评估软件包，和对收集的数据自动进行统计分析的DEVA。这允许操作者定义数据评估宏指令。Leica Microsystems Semiconductor GmbH, www.leica-microsystems.com.