Applied Materials发布新型制程工艺监控系统

据Semiconductor Reporter网站报道，Applied Materials Inc.近期发布了一套新型制程工艺监控系统，该系统可以在快速热处理过程和外延淀积系统中实现每秒钟100次的工艺参数监测。公司正努力在更多的工艺制程环境中实现工艺参数的监测。

NeXus SPC在多个工艺和传感元件中获得联合数据，实现工艺制程的实时监控并跟踪改变制程环境，从而缩短工艺流程时间、提高产品良率、降低有效维护的成本。

NeXus SPC可以应用于Vantage Radiance Plus RTP、Vantage RadOx RTP和Applied Centura Epi系统中。NeXus SPC是NeXus诊断软件的加强版，增加了包括整个代工级软件平台，实现了不同制程系统硬件、工艺和服务数据库的连接。