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Applied Materials发布新型制程工艺监控系统 |
| 发布时间:2006年8月30日 点击次数:331 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Semiconductor Reporter网站报道,Applied Materials Inc.近期发布了一套新型制程工艺监控系统,该系统可以在快速热处理过程和外延淀积系统中实现每秒钟100次的工艺参数监测。公司正努力在更多的工艺制程环境中实现工艺参数的监测。 NeXus SPC在多个工艺和传感元件中获得联合数据,实现工艺制程的实时监控并跟踪改变制程环境,从而缩短工艺流程时间、提高产品良率、降低有效维护的成本。 NeXus SPC可以应用于Vantage Radiance Plus RTP、Vantage RadOx RTP和Applied Centura Epi系统中。NeXus SPC是NeXus诊断软件的加强版,增加了包括整个代工级软件平台,实现了不同制程系统硬件、工艺和服务数据库的连接。 相关链接（英文）： |
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