Applied Materials与Varian分别向Intel交付新型离子注入设备

据EE Times网站报道，Applied Materials Inc.与Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.分别向Intel交付公司的新型离子注入设备。第一套设备正在Intel进行评估，大部分设备将应用于45nm工艺制程。

Pacific Crest Securities Inc.分析师Mark Bachman表示，Intel决定在Applied Materials的Quantum X Plus与 Varian的VIISta HCI中选择其45nm节点的离子注入设备。

Intel关于离子注入设备的订单将达到6600-9200万美元，Bachman表示，每一个晶圆厂将需要22套离子注入设备。Intel计划建立两个晶圆厂进行45nm芯片的生产。