据Reed网站报道，纳米材料及工艺的研发正在促进超高真空设备的增长。

纳米技术研发的快速增长需要能够带来最少分子沾污的超高真空技术。比如下一代光刻技术，半导体检测激素，扫描隧道显微镜，原子尺度的电镜，x射线显微镜，纳米定位系统，原子层沉积以及其它领域都需要高真空技术。

真空系统和设备原本定义在0.1Pa到0.1mPa。而现在纳米技术的飞速发展需要10的负4到10的负9次方帕斯卡的超高真空，才能满足人们对于纳米尺度下特性和关系的理解，并开发新型的研究和制造技术。

据报道，像Wisconsin-Madison大学，哈佛大学，以及Lawrence Berkeley美国国家实验室等从事纳米技术研发的机构都是超高真空技术的强有力驱动。

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http://www.rdmag.com/ShowPR.aspx?PUBCODE=014&ACCT=1400000100&ISSUE=0604&RELTYPE=FE&PRODCODE=00000000&PRODLETT=AP