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韩国斥资400亿韩元开发半导体技术 |
| 发布时间:2002年7月17日 点击次数:8 |
| 来源:中电网 作者: |
在第5年度中,韩国政府计划在共计35个项目中投入389亿7300万韩元（约合人民币2.74亿元）。系统LSI领域将集中开发高性能嵌入式处理器、微型计算机、0.18μm EML设计技术和面向通信用途的LSI技术等。另外,还将通过铜布线技术、高介电质材料和薄膜分析技术等的开发,来实现支持0.07μｍ的制造技术。同时将致力于面向300mm晶圆的氧化物刻蚀装置及旋转刻蚀（Spin Etcher）装置等量产设备的开发。 |
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