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英特尔公司在日本京都的硅纳米电子学研讨会上发布了它最新研究成功20纳米的晶体管,并宣布说使用这一技术将使英特尔能够在2007年开发出20GHz的处理器。 这一新技术仍然使用通常的硅片,其晶体管的门尺寸是20纳米,开关速度可达0.75皮秒(10-12秒),或者说每秒可动作1.5万亿次。这一成果已经打破了英特尔在去年12月创造的30纳米技术、0.85皮秒开关时间的记录。 英特尔公司所谓的“P1266”工艺技术即基于这种20纳米晶体管技术之上,并使用45纳米(0.045微米)的工艺。新的集成电路将使用0.75伏的电压工作,其中的门电路只有0.8纳米厚,它将是最薄的设备。这种新工艺将能够使集成电路的集成度达到10亿个,工作频率达到20GHz,而目前集成度最大的是1.7GHz奔腾4处理器,集成了4200万只晶体管。凭借这种技术,英特尔将能够在最近10年中仍然按摩尔定律的要求来推动CPU的进步。但这种技术目前还只存在于实验室中,直到2007年才能达到实用水平。 目前英特尔使用0.18微米的技术,并且正在推进到0.13微米的技术,称为P860。到2003年,该公司将使用0.1微米技术,称为P1262。然后是30纳米晶体管,70纳米工艺的P1264,以及2007年的P1266。之后还有15纳米晶体管,35纳米工艺的P1268。为了生产这样的晶体管,英特尔将在这个10年内将生产设备更新到超紫外线(EUV)技术。
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