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涂布显影系统

发布时间:2005年3月1日 点击次数:478
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新一代Clean Track Lithius 涂布显影设备改进的设计使该系统单一单元产出提高到了150wph,它是适用于300mm/200mm, 45nm技术的涂布显影设备,设计时加入的3个新的设计理念,即提高工艺水平,缩短工艺周期和增强网络解决方案,如eDiagnostics和APC等。它同时具有更加精确控制的炉温设计,拓展了其应用于高端市场的能力。Tokyo Electron,www.tel.com
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