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Micronic与ASML就光掩膜蚀刻技术签署合作协议

发布时间:2005年2月23日 点击次数:339
来源:半导体国际   作者:
 
Micronic Laser Systems AB公司日前表示,该公司与荷兰ASML Netherlands公司最近签署了一项授权协议,授予ASML以Micronic在空间光调制器和数据通道技术领域的专利产品组合为基础,面向半导体应用推广光学掩膜蚀刻的权利。
  Micronic将靠出售基于该公司专利的掩膜蚀刻系统收取版权费用,并且被批准免费使用ASML针对光掩膜应用的SLM技术开发成果。作为交易的一部分,Micronic将收取一部分未来版税的预付款,合计2,000万欧元(约为2,700万美元)。


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