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Micronic与ASML就光掩膜蚀刻技术签署合作协议 |
| 发布时间:2005年2月23日 点击次数:339 |
| 来源:半导体国际 作者: |
Micronic将靠出售基于该公司专利的掩膜蚀刻系统收取版权费用,并且被批准免费使用ASML针对光掩膜应用的SLM技术开发成果。作为交易的一部分,Micronic将收取一部分未来版税的预付款,合计2,000万欧元(约为2,700万美元)。 |
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