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IMEC获得ASML第一台超远紫外光刻设备 |
| 发布时间:2006年9月3日 点击次数:354 |
| 来源:SEMI 作者: |
据EE Times网站报道,独立研究机构Interuniversities Microelectronics Center(IMEC)近期表示,已经获得了全球第一套超远紫外(EUV)光刻设备。 IMEC宣布已于8月16日收到来自ASML Holding NV的超远紫外(EUV) Alpha Demo Tool(ADT)设备,收到之后,该设备在ASML研发人员的协助下进行了全速晶圆片运行。 该EUV设备拥有6500万个部件,被认为是IMEC先进光刻领域的重要项目。同时,IMEC还同步进行基于ASML XT 1700i的浸入式光刻、双次图形光刻等。 相关链接（英文）： |
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