据半导体国际网站报道，ASML Holding NV公司目前已向美国纽约州立奥巴尼大学纳米科学与工程学院提供全球首款超紫外线(EUV)光刻设备。

该套EUV工具仅作研发用途，不用于生产。据奥巴尼大学称， 这套被ASML称作Alpha Demo Tool(ADT)，价值6,500万美元的光刻设备标识着EUV技术在研发和商业化途中迈进了关键的一步。

一旦Albany NanoTech complex这个耗资10亿美元的纳米技术研发中心在CNSE上安装完毕，EUV ADT将支持之前在国际在纳米蚀刻事业组织所宣布的研发计划。国际纳米蚀刻事业为一个全球工业—高校联盟，由纽约州政府所支持发起。国际纳米蚀刻事业组织的成员包括Advanced Micro Devices, AMD, IBM, Micron Technology和Qimonda。Sony和东芝也参与了CNSE的EUV计划。

ASML还表示今后将开发另一台EUV演示工具，届时将提供给欧洲研究机构IMEC。ASML和Nikon对EUV技术的研究已达数年。不久前，荷兰ASML称EUV技术已可用于32nm芯片生产工艺。