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TFT可采用液态硅旋转涂布工艺生产

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  精工爱普生公司(Seiko Epson)与JSR公司共同开发了一种采用液态涂布和喷墨成形工艺的硅薄膜。这种硅薄膜是一种低温多晶硅TFT(薄膜晶体管),其性能可与采用传统CVD(化学气相沉积)方法生产的薄膜相媲美。这种新型材料是一种氢和硅的高级硅烷混合物,它可以被有机溶剂溶解。

  为了得到一种硅薄膜,开发人员将材料旋转涂覆在一个基底上,并在一种惰性气体中进行烘烤。在这个过程中电子的流动性达到108cm2/Vsec。利用喷墨方法形成的硅薄膜形式的TFT原型可实现6.5cm2/Vsec的流动性,比旋转涂布的图形更好。其最终目标应用包括液晶电视和喷墨打印机。

来源:EDN电子设计技术   作者:  2006/7/8 0:00:00
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