据Semiconductor Reporter网站报道,Fujitsu Ltd.与Advantest Corp.近期联合宣布,计划建立一个联合企业,进行半导体电子束直写光刻设备样机研究。合作的最终细节仍在讨论,但两家公司预期于11月成了该合资企业。
该企业将结合Fujitsu先进电子束曝光系统的半导体制程技术,由Advantest进行研发和生产,适用于65-45nm制程的原型样机。
预期在明年4月份开始的下一个财政年度,该企业将开始提供65nm样机,在晚些时候将进入45nm技术时代。
新公司由Fujitsu和Advantest持股的比重分别为55%和45%。
相关链接(英文):
http://www.semireporter.com/public/14524.cfm
