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NEC Electronics计划明年推出55nm CMOS制程工艺 |
| 发布时间:2006年8月22日 点击次数:554 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Semiconductor Reporter网站报道,NEC Electronics America Inc.近期宣布,该公司正在采用55nm CMOS工艺进行SoC(system-on-chip)器件制作的研究,该工艺涉及硅酸铪高k介质薄膜和浸入式光刻等技术。型号为UX7LS的制程系统将于2007年夏开始交货。 NEC Electronics公司表示,作为该公司65nm工艺的更新版本,UX7LS制程技术将降低SoC器件的功耗,并且可以达到45nm工艺的器件性能。芯片的制作将会采用一种被称为UltimateLowPower技术的复合技术,芯片在待机状态下的功耗将是65nm器件的十分之一。 行业对于高速、低功耗器件需求的增长推动了半导体制程技术的发展,NEC Electronics SoC副总裁Kazu Yamada表示,通过我们的制程工艺,SoC设计者可以进一步降低器件的功耗和成本。 相关链接（英文）： |
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