半导体制作工艺过程中，光刻工艺是一个非常重要的工序。利用光刻模拟软件具有以下优势：

加快工艺发展速度 
最大限度提高半导体制造商对现有曝光机的利用率
实现对光刻工艺战略的快速定义并认证，从而缩短进入市场的时间

缩短量产化进程
对光刻结果提供可靠的预测
能够对光刻过程，结构设计及掩模进行校正

提高生产率和增加收益
减少暇疵提高效益
缩小IC设计与成品之间的差距

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