No.107265 作者:mcumcu2011 邮件:2232894713@qq.com ID:146042 登陆:36次 文章数:182篇 最后登陆IP:119.136.84.46 最后登陆:2016/12/19 9:56:07 注册:2011/7/12 16:15:28 财富:968 发帖时间:2014/7/14 14:48:04 发贴者IP:115.231.168.207 标题:mcumcu2011:[原创][转] PCB布局前的准备-经验总结 摘要:No.107265[原创][转] PCB布局前的准备-经验总结 布局前的准备: 1查看捕捉点设置是否正确.08工艺为0.1,06工艺为0.05,05工艺为0.025. 2Cell名称不能以数字开头.否则无法做DRACULA检查. 3布局前考虑好出PIN的方向和位置 4布局前分析电路,完成同一功能的MOS管画在一起 5对两层金属走向预先订好。一个图中栅的走向尽量一致,不要有横有竖。 布局时注意: 6更改原理图后一定记得check and save 7完成每个cell后要归原点 8DEVICE的个数是否和原理图一至;各DEVICE的尺寸是否和原理图一至。一般在拿到原理图之后,会对布局有大概的规划,先画DEVICE,再连线。画DEVICE后从EXTRACTED中看参数检验对错。 9如果一个cell调用其它cell,被调用的cell的vssx,vddx,vssb,vddb如果没有和外层cell连起来,要打上PIN,否则通不过diva检查.最好在布局低层cell时就连起来。 10尽量用最上层金属接出PIN。 11 接出去的线拉到cell边缘,布局时记得留出走线空间. 12 金属连线不宜过长; 13 电容一般最后画,在空档处拼凑。 14 小尺寸的mos管孔可以少打一点. 15 LABEL标识元件时不要用y0层,GDS文件不认。 16 管子的沟道上不要走线 17 电容上下级板的电压注意要均匀分布;电容的长宽不宜相差过大。可以多个电阻并联. 18 多晶硅不能两端都打孔连接金属。 19 一般打孔最少打两个 20 薄氧化层是否有对应的植入层 21 金属连接孔可以嵌在diffusion的孔中间. 22 两段金属连接处重叠的地方注意金属线最小宽度 23 连线接头处一定要重叠,画的时候将该区域放大可避免此错误。 24 摆放各个小CELL时注意不要挤得太近,没有留出走线空间。最后线只能从DEVICE上跨过去。 25 Text2,y0层只是用来做检查或标志用,不用于光刻制造. 26 芯片内部的电源线/地线和ESD上的电源线/地线分开接。 27 Pad的pass窗口的尺寸画成整数. 28 连接Esd电路的线不能断,如果改变走向不要换金属层 29 关于匹配电路,放大电路不需要和下面的电流源匹配。什么是匹配?使需要匹配的管子所处的光刻环境一样。 匹配分为横向,纵向,和中心匹 ......
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