Axcelis Technology近日宣布其北京技术中心开业，这是近4年来Axcelis在中国设立的第二个技术支持中心。Axcelis亚太区总裁徐嘉禾介绍，Axcelis针对中国市场研发了最高可用于0.11um工艺的GSD+中剂量离子注入机，以满足中国客户产能扩充和成本上的需求。据了解，目前Axcelis Technology的离子注入设备在中国安装已达到了70台。

　　面向300mm生产线，Axcelis在Optima HD中增加了两个新的离子源B₁₈和H+，同时采用RadiuScan_TM技术，使throughput每小时可以达到370片。徐嘉禾透露，这款高端产品今年末有望进入中国客户生产线中。他认为，中国半导体企业在能力提升上要以R&D技术能力的提升为基本点，同时各晶圆厂之间也要达成一定的共识，以决定自己要走的道路。