最新版半导体工业技术发展蓝图（International Technology Roadmap for semiconductors—2003 ITRS）于2003年底公布。该蓝图提出了一种新的对半导体技术发展的要求，以及相应的解决办法和半导体工业发展的时间表。预计该蓝图可以延伸到2018年。
在2003 ITRS中提出了一个新的概念叫做“hp”专指集成电路中的第一层金属线尺寸的半间距（如hp 90nm将于2004年实现）。ITRS展示了一些主要的技术问题，这些挑战可分为两部分，改善性能和低成本生产，可总结为短期(2003-2009年)和长期（2010－2018年）时间段的蓝图（图1）。
蓝图提出的其它问题还包括：发展新的叠层栅结构、工艺和材料，用新型存储材料的CMOS集成和工艺，关键尺寸（CD）和有效栅长（Leff）的控制，光学掩膜与后光学掩膜的制备。ITRS全文可见http://public.itrs.net。
