内容导读：

电子束曝光设备SB250可以同时用在硅片曝光或掩模板曝光工艺中。设备有以下的特性：装配了一个200毫米的平台;具有50KV高精度的柱状电子束;全自动传送;以及安装了最新型的操作系统和数据处理准备系统。
Leica Microsystems GmbH  www.leica-microsystems.com.

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来源:半导体国际 作者: 时间:2006/5/11 0:00:00