据Semiconductor Reporter网站报道，SensArray Corp.在近期的Semicon West展会上发布了其最新的圆片产品，该产品可以在复杂的工艺环境下收集工艺参数信息。

Integral Wafer可以应用于等离子体刻蚀，包括包括高功率的电介质刻蚀。此外还可以应用于CMP、湿法化学腐蚀和清洗、旋转漂洗、注入和浸入式光刻的测量。

该圆片具有200mm和300mm两种规格，Integral Wafer采用了SensArray公司的Thermal Map软件进行数据显示和分析，采用了BaseStation和CarrierStation对产品进行配置和贮藏。一个300mm的Integral Wafer产品包含有65个传感器，可以实现20到130摄氏度的温度测量。

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