ZA 50XT是一种正性光刻胶，特别为长凸时涂布超厚的光刻胶而量身定做。ZA 50nXT和100nXTFA是为类似应用开发的负性光刻胶，具有很高的分辨率。AZ 50XT, AZ 50nXT 和 AZ 100nXT 的涂布厚度分别为65 μm, 50-80 μm和100 μm。正性光刻胶的纵宽比为3:1，负性光刻胶则为5:1。以上光刻胶具有很好的侧壁轮廓和很宽的工艺窗口。
AZ Electronic Materials www.azresist.com
来源:半导体国际 作者: 时间:2003/11/12 0:00:00
