据Semiconductor Reporter网站报道，Nikon Corp.近期发布了一款新型浸入式光刻系统，该系统将主要应用于45nm存储器芯片和32nm逻辑器件的生产。新型的NSR-S610C扫描器采用193nm的ArF光源、数值孔径1.30的投影透镜和Nikon第四代偏振技术(Polano)。

该系统同时还包括Nikon公司的Local Fill技术和Tandem Stage，这将使该系统可以实现每小时130圆片的生产能力。Nikon表示，该系统将于2006年底开始交货。

该系统将具有较高的生产效率和改良的工艺精确性，Nikon表示，它可以实现小于6.5nm的对准精度，同时工艺波动和改变的风险将通过标准校验来消除。

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