内容导读：

　　该高级掩膜区过滤器能除去光刻设备内的气相有机物和其它污染物。它的体积比目前镜头吹洗和光学系统吹洗保护中常用的单点POU过滤器的体积还要小。该过滤器由活性碳制作而成，不会影响O2、H2O的穿透和相对湿度。
　　Donaldson Co. Inc.
　　Minneapolis  
　　www.donaldson.com.

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来源:半导体国际 作者: 时间:2003/11/12 0:00:00