CLEAN TRACK LITHIUSTM是300mm制程的光阻涂布和显影装置，依托CLEAN TRACK ACT(r)的平台的技术优势，可制造出稳定的７０ nm技术。并且，加上先进的制程处理能力，组成各种测定模块。总体检查和线宽（CD）测定技能装载在从本装置的制程处理部件独立出来的测定器装载件（MIB）内。
光刻工序中重要应用，即CD测定运用了ODP(Optical Digital Profilometry)技术予以解决。这一技术是针对反射光光谱的变化，实现划时代的高速演算，计算出CD值。将ODP技术与分光反射计相结合，作为模块装载在CLEAN TRACK ACT R和CLEAN TRACK LITHIUSTM内。这一模块组装后，可对CD进行实时监控，一旦发生制程异常不仅可迅速应对，而且可实现制程的高度控制。另外，这一系统可减少非生产晶片数，在光刻工序结束后无须将晶片传送到非线上的测定机作测定，从而缩短了光刻系统全体TAT（Turn Around Time），提高了生产效率。
东电半导体 (Tokyo Electron) 021-50328833 www.tel.co.jp
来源:半导体国际 作者: 时间:2003/9/10 0:00:00
