内容导读：

全新的ComPlus-EV系统是一套能为90纳米量产提供高速晶圆检测的系统，功能涵盖所有暗视野应用与关键的明视野应用。这套系统运用专用的Enlarged GrayField技术，每小时可检测60片晶圆，捕捉缺陷能力比原先系统快五成。 运用Enlarged GrayField技术，ComPlus-EV系统能在量产速度下检测各种缺陷，包括超微小与平面图案缺陷，以及化学机械研磨后的铜导线与微影制程出现的缺陷。ComPlus-EV系统同时具有新型的EZSet自动配方装置，可大幅减少配方调配，节省时间，提高系统生产效率。
　　另外，这套系统还内建连结SEMVision缺陷检查系统，可快速提供资料，进行错误侦测。另外，这套系统配有多视野功能，加强系统执行额外的明视野应用能力，包括检测在晶体管层如STI、闸与钨导线出现的缺陷。多视野功能选项可扩增这套系统的检测与放大功能，进而提升检测平面缺陷的敏锐度，增加产出，降低成本。
　　应用材料公司：Applied Materials  http:// www.appliedmaterials.com   021-58958985

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来源:半导体国际 作者: 时间:2003/9/10 0:00:00