Nikon7月宣布和Tokyo Electron共同开发与曝光系统有关的液体沉浸曝光技术。自从2001年以来，这两个公司已经共享评估系统，以提高工艺性能。该新协议标志着它们的合作达到新的阶段。
　　根据协议， Nikon将与在抗蚀剂涂料器(resist coater)/显影剂(developer)等方面拥有大量市场份额的Tokoy Electron在开发液体沉浸曝光技术方面共享各自的专长，以便在短时间内完成元素技术(element technologies)的开发，延长ArF曝光系统的使用寿命。

　　Nikon7和Tokyo Electron将在2003年底验证这些元素技术，使其尽早进入批量生产，满足半导体产业对液体沉浸技术的需要，并在抗蚀剂材料方面进行合作，因为抗蚀剂是光刻工艺的关键，有助于促进液体沉浸技术的实际应用。