内容导读：

英特尔公司6月第二次修订了其光刻产品策略，披露将停止其产品蓝图中157纳米工具的开发，同时也不再研究用于IC制造的扫描器技术。预计此举将对ASML、 Nikon和Cannon等光刻机及相关设备供应商产生巨大影响。
　　英特尔最初期望采用193纳米和157纳米扫描器用于2007年45纳米节点的IC制造。据业内专家分析，英特尔将通过辅助技术扩展193纳米的功能，通过改变镜头数值孔径等方法实现45纳米。英特尔计划2009年将直接使用深紫外工具开发32纳米节点 。

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来源:半导体国际 作者: 时间:2003/8/1 0:00:00