XLA100 ArF光源是性能卓越的高级光刻的工作光源，拥有三个深紫外(DUV)波长。作为世界上第一个双腔光源，XLA100与主控振荡器功率放大器整合在一起，双腔技术造就了行业内功率最大，带宽最窄的光源，并且也具有193纳米光刻的量产优势。通过将电源与带宽发生器相分离，克服了由于成本方面的考虑而带来的局限性，这种局限性限制了新光源的设计。主控振荡器功率放大器驱动的XLA100使芯片生产商能达到更高的产量，更小的临界尺寸，这些都是下一代DUV光刻所需要的。在这种独特的双腔设计下，XLA100和其他的未来光源将能够在高功率下达到非常严格的带宽性能，与现在的单腔结构相比能显著的降低成本
。
