英飞凌采用SiGe:C技术开发IC
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德国英飞凌科技日前宣布,该公司使用SiGe:C(silicon germanium carbon)双极工艺技术,开发出110GHz以上的动态分频IC等。据该公司介绍:“与竞争厂商的IC相比,采用新技术开发的IC其工作频率高出10%~30%”。
该公司使用SiGe:C双极工艺技术,设计出用于高速通信的主要功能构件模块。该技术的截止频率超过200GHz,环形振荡器的门延迟时间为3.7皮秒。英飞凌使用上述工艺技术制作的IC如下:
·最大输入频率110GHz以上的动态分频IC。分频比为2、工作电压为5V、耗电量为62mA
·最大输入频率为86GHz的静态分频IC。分频比为32、工作电压为5V、耗电量为180mA
·能够在95GHz~98GHz间运行的压控振荡器(VCO)。载波的offset频率为1MHz时的位相噪音为-97dBc/Hz。输出为-6dBm、工作电压为5V、电流为12mA
关于上述产品,该公司解释说:“这表明SiGe双极技术适用于各种高速模拟及数字领域,比如Gbps级别的数据通信、宽带无线、微波产品等”。
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来源:中电网 作者: 时间:2003/7/7 0:00:00