内容导读：

　　AIMS fab加工作台是一种用于片子分步重复曝光/扫描曝光自动模拟设备，供光刻掩膜版的评估用。它可以自动灵活地装入光刻掩膜，对它进行原位评估。选择与曝光机曝光过程的工艺相同的条件，掩膜版的图案和缺陷就可以通过光学系统被模拟出来，从而可以检验出光刻掩膜版是否含有能被复制的缺陷。该设备还能对光刻胶的线宽进行预测和数据采集。
　　Carl Zeiss   www.zeiss.com

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来源:半导体国际 作者: 时间:2003/7/1 0:00:00