内容导读：

　　A3是一种浸泡式晶片清洗处理系统，处理速度快，化学药品浓度低，采用AeroSonic干燥技术，处理系统简单、高效。是一种先进的槽式清洗系统。该系统使用的技术结合了下一代的兆频级超声波和工艺控制系统，能满足下一代器件制备技术的要求。这一系统适于300mm直径的片子使用。是一种全自动化系统，每批次（片篮式处理）能传送和处理50到100片晶片。
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来源:半导体国际 作者: 时间:2003/7/1 0:00:00